لا غسيل بعد اليوم! نسيج نانوي ينظف نفسه بنفسه
كل ما تحتاجه هو تعريض ملابسك للشمس لتحصل على غسيل بمعنى الكلمة، هذا اخر ما توصل له العلماء في مجال بحوث النانو على الانسجة ذاتية التنظيف self-cleaning textiles.
تمكن باحثون في جامعة RMIT في ميلبورن في استراليا من تطوير تقنية جديدة رخيصة وفعالة لتوليف تراكيب نانوية يمكنها ان تتخلص من المواد العضوية بمجرد تعرضها لاشغة الضوء.
مهد هذا العمل الطريق للحصول على انسجة يمكنها ان تنظف نفسها ذاتيا وتتخلص من البقع والاوساخ والجراثيم بمجرد ان تتعرض لضوء مصباح كهربي او عندما تكون مرتديها وتتعرض لضوء الشمس.
يقول الدكتور راجيش راماثان Rajesh Ramanathan ان هذه التقنية يمكن ان تستخدم في العديد من التطبيقات التي تعتمد على عملية التحفيز catalysis مثل المواد الكيميائية الزراعية والمواد الطبية الصيدلانية والمونتجات الطبيعية ويمكن ان تستخدم على نطاق صناعي واسع.
ما يميز هذه المادة الجديدة انها تمتلك نسيج ثلاثي الابعاد مدعم بتراكيب نانوية من النحاس والفضة مما يجعلها قادرة على امتصاص الضوء المرئي بكفاءة عالية وهذا يسرع عملية التنظيف والتخلص من المواد العضوية العالقة بها.
بالطبع البحث لا زال مستمرا لتطوير هذه المواد الجديدة قبل ان يتم التخلص تماما من الغسالات وتصبح كافة ملابسنا تنظف نفسها ذاتيا.
عندما تتعرض التراكيب النانوية للضوء فانها تستقبل طاقة تعمل على تحرير بعض الالكترونات نطلق عليها بالالكترونات المثارة وهذه الالكترونات المثارة تعطي طاقتها للتراكيب النانوية لتمكنها من التخلص من المواد العضوية وتفتيتها.
وتكمن صعوبة المشروع الذي يعمل عليه فريق جامعة RMIT في كيفية بناء التراكيب النانوية على مستوى كبير وجعلها متماسكة مع الانسجة ودائمة.
وتم التغلب على هذه المشاكل بطريقة غمس النسيج في محاليل خاصة تحتوي على تراكيب نانويةـ مما تمكنوا في النهاية من الحصول على تراكيب نانوية مستقرة على النسيج خلال فترة زمنية قصيرة تصل إلى ٣٠ دقيقة.
عندما تتعرض للضوء لمدة لا تتجاوز 6 دقائق يبدأ النسيج بتنظيف نفسه ذاتيا. ويسعى العلماء حاليا إلى دراسة كيف تستجيب هذه الانسجة للمركبات العضوية والمواد الاكثر تسببا في حدوث البقع والاوساخ.
نشرت هذه الدراسة في ٢٣ مارس ٢٠١٦ في مجلة Advanced Materials Interfaces.
المصدر: Physorg.com